[发明专利]一种真空蒸镀用基片降温装置及其使用方法有效

专利信息
申请号: 202011479813.5 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112609167B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 熊继光;赵志国;秦校军;肖平;赵东明;邬俊波;董超;刘家梁;王百月;冯笑丹;梁思超;王森;张杰 申请(专利权)人: 华能新能源股份有限公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/24;C23C14/54;H01L51/48
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李鹏威
地址: 100036 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种真空蒸镀用基片降温装置及其使用方法,一种真空蒸镀用基片降温装置,包括水冷基板以及开设在水冷基板上的进水口和出水口,还包括设置在水冷基板上方的电磁控制装置,以及吸附于水冷基板下表面的磁性材料,初始状态下,磁性材料设置在水冷基板和电池基片之间,且磁性材料与水冷基板和电池基片紧密贴合,仍采用水冷降温方法,但具有改进的降温组件,并在降温组件和电池基板之间添加容易塑形的细沙状的磁性材料充当传热介质,通过调节磁场使得磁性材料尽可能的填充降温组件与基片之间的空隙,改善降温效果。
搜索关键词: 一种 真空 蒸镀用基片 降温 装置 及其 使用方法
【主权项】:
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