[发明专利]基于相变材料存储栅的无结硅纳米线晶体管及制备方法有效

专利信息
申请号: 202011479891.5 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112614865B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 杨冲;韩伟华;陈俊东;张晓迪;郭仰岩;杨富华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L29/423;H01L45/00;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/51;H01L29/78;H01L21/28;H01L21/336
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 鄢功军
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于相变材料存储栅的无结硅纳米线晶体管,SOI衬底的顶层硅通过刻蚀形成纳米线结构、源区和漏区,纳米线结构表面覆盖有相变栅介质层,相变栅介质层上侧设置有第二绝缘栅介质层;第二绝缘栅介质层一端上侧设置有主栅电极,主栅电极通过第一接触孔与相变栅介质层连接,且主栅电极覆盖于纳米线上侧;第二绝缘栅介质层另一端上侧设置有副栅电极,副栅电极通过第二接触孔与相变栅介质层连接。本发明将相变材料作为栅介质制备在纳米线晶体管中,能够实现多值存储,同时可以作为电子突触器件应用于神经形态计算。此器件以无结硅纳米线晶体管为载体,具有与COMS工艺兼容,存储密度高,读写操作分离的优点。
搜索关键词: 基于 相变 材料 存储 无结硅 纳米 晶体管 制备 方法
【主权项】:
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