[发明专利]一种ITO烧结靶材的制备方法在审
| 申请号： | 202011482760.2 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112592173A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 唐智勇 | 申请（专利权）人： | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/457 | 分类号： | C04B35/457;C04B35/622;C04B35/645;B28B3/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 杨千寻;杜梅花 |
| 地址： | 412000 *** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种ITO烧结靶材的制备方法，所述制备方法包括热等静压法和冷等静压法，所述热等静压法和冷等静压法工艺步骤均为：配置、制坯和烧结；所述热等静压法和冷等静压法的配置工艺为：将单相ITO固溶体粉末在一定还原气氛和温度下进行部分还原，还原度在0.02‑0.2之间，所述配置工艺中，还原气氛气体组成成分为H |
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| 搜索关键词： | 一种 ito 烧结 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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