[发明专利]一种纳米锥形阵列结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202011482916.7 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112591707A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 徐少林;徐康;胡劲 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B1/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518055 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米锥形阵列结构及其制备方法，所述制备方法包括如下步骤：(1)利用超快激光对基底进行加工，之后清洗得到中间基底；(2)将步骤(1)得到的中间基底进行等离子体刻蚀，得到所述纳米锥形阵列结构。本发明提供的方法，采用超快激光在表面制备微纳结构，在等离子体刻蚀过程中并利用微掩模效应在微纳结构区域的增强效果，即利用现有技术中缺陷制备了高深宽比的纳米锥阵列结构，该方法兼容性好、制备区域灵活可控，可极大提升纳米锥阵列结构的制备工艺精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 锥形 阵列 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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