[发明专利]一种氮化铝陶瓷基板用抛光液及其制备方法和抛光方法在审
| 申请号： | 202011483351.4 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112521866A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 苑亚斐;成淼;李雪梅 | 申请（专利权）人： | 北京国瑞升科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B1/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王焕 |
| 地址： | 100085 北京市海淀区上*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及研磨抛光技术领域，具体而言，涉及一种氮化铝陶瓷基板用抛光液及其制备方法和抛光方法。本发明的氮化铝陶瓷基板用抛光液，主要由以下质量份数的组分组成：氧化铝磨料90～110份、分散剂4～12份和水850～950份；采用pH调节剂调节所述抛光液的pH为3～5。本发明的抛光液可有效的对氮化铝陶瓷基板进行抛光处理，提高抛光速率，显著降低表面粗糙度，易清洗，减少氮化铝陶瓷基板抛光过程中的二次划伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 陶瓷 基板用 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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