[发明专利]对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法有效
| 申请号： | 202011483446.6 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN113005418B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 阿部大和;菅原洋纪 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/52;C23C14/24;C23C14/04;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供提高对准精度的对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。对准装置具备：第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；第2照相机，具有与第1照相机不同的分辨率，拍摄对准标记；反射光取得用的第1光源，向对准标记照射光；透射光取得用的第2光源，向对准标记照射光；以及位置调整机构，基于由第1照相机或第2照相机拍摄由第1光源或第2光源照射了光的对准标记而得到的图像，调整基板与掩模的相对位置。使向对准标记照射光的光源在利用第1照相机取得对准标记的图像的情况下和利用第2照相机取得对准标记的图像的情况下不同。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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