[发明专利]有源矩阵基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202011484960.1 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN113078167A 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 今井元;大东彻;上田辉幸;原义仁;前田昌纪;川崎达也;平田义晴;菊池哲郎 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝;刘宁军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供具备顶栅型的氧化物半导体TFT并且能抑制由ESD导致的源极‑栅极间的漏电的有源矩阵基板。有源矩阵基板具备多个源极总线、覆盖源极总线的下部绝缘层、形成在下部绝缘层的上方的多个栅极总线、以及与各像素区域对应配置的氧化物半导体TFT,氧化物半导体TFT具有:氧化物半导体层,其配置在下部绝缘层上;以及栅极电极,其配置在氧化物半导体层的上方,形成在与栅极总线不同的层,并且与配置在相邻的像素区域的栅极电极分离配置,栅极电极由层间绝缘层覆盖,栅极总线配置在层间绝缘层上、以及形成于层间绝缘层的栅极接触孔内,在栅极接触孔内连接到栅极电极。
搜索关键词: 有源 矩阵 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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