[发明专利]一种基于含硼荧光染料的新型共轭微孔聚合物的制备及其光催化应用有效
申请号: | 202011485085.9 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112724374B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 贡卫涛;邓潇荣 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;B01J31/06;C09K11/06;C07C249/02;C07C251/24 |
代理公司: | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人: | 张钦 |
地址: | 116023 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明属于精细化工技术领域,公开了一种基于含硼荧光染料的新型共轭微孔聚合物的制备及其光催化应用。该聚合物通过Sonogashira–Hagihara反应进行制备,通过在1,3,5‑三(二氟硼氧基)‑2,4,6‑三((4‑溴苯基亚氨基)甲基)‑苯中引入含硼荧光染料结构增加光催化性能,将1,3,5‑三(二氟硼氧基)‑2,4,6‑三((4‑溴苯基亚氨基)甲基)‑苯与1,3,5‑三‑(4‑乙炔基苯基)苯加入到舒伦克管中在80℃氮气保护下反应48‑72h,得到基于含硼荧光染料的新型催化剂。本发明制备的催化剂具有良好的化学和热稳定性并且具有较高的催化性能,对苄胺衍生物催化产率可到99%以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 荧光 染料 新型 共轭 微孔 聚合物 制备 及其 光催化 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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