[发明专利]一种基于相位调制提高投影光刻分辨率的系统及方法在审
| 申请号： | 202011488603.2 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112596348A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 赵圆圆;段宣明;董贤子;郑美玲 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 张金福 |
| 地址： | 510632 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于相位调制提高投影光刻分辨率的系统及方法，根据不同的光刻图案，在DMD芯片生成数字掩膜图案前可直接对平行光束进行调制，通过上位机加载编程的像素化相位参数信息，而无需改变投影成像系统；另外，由于DMD生成的数字掩模图案可编程，通过上位机进行控制，可改变传统成像系统中DMD芯片所产生数字掩模图案的相位参数，在相邻像元引入π或π奇数倍的相位差，使得相邻面元投影光产生干涉相消，减小光场分布中暗区光强、增大亮区光场，从而提高成像对比度，既显著提高了投影光刻分辨率，又无需考虑DMD芯片微镜面元上无法沉积移相介质层的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 相位 调制 提高 投影 光刻 分辨率 系统 方法 | ||
【主权项】：
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