[发明专利]一种含低浓度HF的HCl气体深度脱氟干燥的FTrPSA分离与净化方法有效

专利信息
申请号: 202011490433.1 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112624050B 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 汪兰海;钟娅玲;钟雨明;陈运;唐金财;蔡跃明 申请(专利权)人: 浙江天采云集科技股份有限公司
主分类号: C01B7/07 分类号: C01B7/07;C01B7/19
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 轩勇丽
地址: 314400 浙江省嘉兴市海宁*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及以含少量氟化氢/水杂质的工业级氯化氢气体为原料制备电子级HCl的净化提纯技术领域,更具体的说是涉及一种含低浓度HF的HCl气体深度脱氟干燥的FTrPSA分离与净化方法,利用工业级氯化氢气体中有效组分HCl与少量的主要杂质组分氟化氢、水,以及微量或痕量的氟硅烷、氯硅烷、二氧化碳、水溶性金属离子及胶体颗粒等杂质之间本身在不同压力与温度下的吸附/精馏/膜分离系数及物理化学性质的差异性,采取以中温变压吸附工序的吸附与解吸循环操作之间达到一种动态平衡为目的并与HCl精馏、膜分离耦合,使得中温变压吸附过程中吸附与解吸易于匹配从而达到一种平衡的循环操作来进行HCl气体深度脱氟干燥的分离与净化,从而实现电子级HCl产品的制取。
搜索关键词: 一种 浓度 hf hcl 气体 深度 干燥 ftrpsa 分离 净化 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江天采云集科技股份有限公司,未经浙江天采云集科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011490433.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top