[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202011490822.4 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN113097043A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 宇田真代;大秦充敬 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置能够使基板上的气体分布的控制性提高。等离子体处理装置具有腔室、天线组件、初级线圈、RF电源、气体喷头。腔室包括具有中央开口部的顶板，该腔室限定等离子体处理空间。天线组件配置于顶板的上方，天线组件具有中央区域、包围中央区域的第1周围区域、包围第1周围区域的第2周围区域，中央区域和第1周围区域在纵向上与中央开口部重叠。初级线圈配置于第2周围区域。RF电源构成为向初级线圈供给RF信号。气体喷头配置于中央开口部，具有暴露于等离子体处理空间内的底部，底部具有多个底部气体导入孔。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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