[发明专利]一种用于制造金属电极的制造方法在审

专利信息
申请号: 202011492899.5 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112653409A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 宋晓辉;许欣;翁志坤 申请(专利权)人: 广东广纳芯科技有限公司
主分类号: H03H3/04 分类号: H03H3/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 邓晔;张鑫
地址: 510700 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种用于制造金属电极的制造方法,包括:在压电材料衬底上形成第一光刻胶层;形成第一图形;基于所述第一图形,对所述压电材料衬底进行蚀刻,以形成填埋沟;去除所述第一光刻胶层;在所述压电材料衬底上沉积金属材料以形成电极金属层;使得所述压电材料衬底的暴露表面与所述电极金属层的暴露表面齐平;形成第一介质层;在所述第一介质层上形成第二光刻胶层;形成第二图形;基于所述第二图形,对所述第一介质层进行蚀刻,以形成电极保护层图形;去除所述第二光刻胶层;以及在所述电极保护层图形和所述压电材料衬底上形成第二介质层。
搜索关键词: 一种 用于 制造 金属电极 方法
【主权项】:
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