[发明专利]一种高质量薄膜铌酸锂微纳光栅的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011492990.7 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112596160B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 周奉杰;钱广;顾晓文;唐杰 申请(专利权)人: 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138;G02B6/136;G02B6/132
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 陈鹏
地址: 210000 江苏省南京市秦淮区永*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高质量薄膜铌酸锂微纳光栅的制备方法,包括:对LNOI材料进行表面清洁;制备高精度的电子束标记;涂覆电子束正胶ZEP 520A,进行LNOI光栅图形以及电子束标记保护区域曝光;蒸发剥离Ni金属,作为光栅波导刻蚀掩膜;采用F基RIE干法刻蚀与NH4OH:H2O2:H2O的湿法处理,循环多次达到指定刻蚀深度;采用30%HNO3去除剩余的Ni掩膜;生长氧化硅上包层。本发明所述方法用于制备LNOI光栅,有效解决了铌酸锂刻蚀后生成物附着问题,提高了LNOI光栅的侧壁光滑度和垂直度。
搜索关键词: 一种 质量 薄膜 铌酸锂微纳 光栅 制备 方法
【主权项】:
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