[发明专利]一种高质量薄膜铌酸锂微纳光栅的制备方法有效
申请号: | 202011492990.7 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112596160B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 周奉杰;钱广;顾晓文;唐杰 | 申请(专利权)人: | 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司 |
主分类号: | G02B6/138 | 分类号: | G02B6/138;G02B6/136;G02B6/132 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 陈鹏 |
地址: | 210000 江苏省南京市秦淮区永*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种高质量薄膜铌酸锂微纳光栅的制备方法,包括:对LNOI材料进行表面清洁;制备高精度的电子束标记;涂覆电子束正胶ZEP 520A,进行LNOI光栅图形以及电子束标记保护区域曝光;蒸发剥离Ni金属,作为光栅波导刻蚀掩膜;采用F基RIE干法刻蚀与NH |
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搜索关键词: | 一种 质量 薄膜 铌酸锂微纳 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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