[发明专利]一种高分辨率的无掩模光刻系统有效
| 申请号： | 202011496773.5 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112526832B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏;刘浩然 | 申请（专利权）人： | 张家港中贺自动化科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陈松 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种高分辨率的无掩模光刻系统，其对成像系统进行改进，可以大幅度提高分辨率，同时光学镜片少，成本低，包括顺序设置的曝光光源、聚光部件、积分器、投射部件、空间光调制器、第一成像系统、聚光元件阵列、空间滤波器、第二成像系统，其特征在于：第一成像系统至少包括顺序设置的：透镜、反射镜，所述空间光调制器输出的特征图形光束经透镜投射到反射镜上，反射镜将特征图形光束反射到所述透镜上，通过所述透镜折射后输出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分辨率 无掩模 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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