[发明专利]一种高分辨率无掩模光刻系统以及曝光方法有效
| 申请号： | 202011496791.3 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112526834B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏;陈国锋 | 申请（专利权）人： | 张家港中贺自动化科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陈松 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高分辨率无掩模光刻系统以及曝光方法，可以大幅度提高分辨率，且未增加计算复杂度，包括：曝光光源，用于产生光束；聚光镜系统，用于汇聚所述曝光光源生产的光束并将光束投射到空间光调制器上；空间光调制器，用于将投射到所述空间光调制器上的光束调制成特征图形光束后输出；第一成像系统，用于将所述空间光调制器输出的特征图形光束成像在聚光元件阵列上；聚光元件阵列，用于将特征图形光束聚集为离散的聚光斑；空间滤波器，用于对离散的聚光斑进行过滤；第二成像系统，用于将经所述空间滤波器过滤的离散的聚光斑成像于成像面上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分辨率 无掩模 光刻 系统 以及 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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