[发明专利]一种CVD金刚石层-孕镶金刚石层-聚晶金刚石复合片层的阶梯型复合片有效
申请号: | 202011497705.0 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN112610160B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 简小刚;胡吉博;杨天;彭薪颖 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | E21B10/46 | 分类号: | E21B10/46 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 刘燕武 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种CVD金刚石层‑孕镶金刚石层‑聚晶金刚石复合片层的阶梯型复合片,由聚晶金刚石复合片层、孕镶金刚石层和CVD金刚石层组成,其中,所述孕镶金刚石层包裹住所述聚晶金刚石复合片层,且沿钻进方向,所述孕镶金刚石层的前端表面具有露出聚晶金刚石复合片层的凹槽,所述的CVD金刚石层设置在孕镶金刚石层上,并确保在钻进工作时,CVD金刚石层最先接触岩层。与现有技术相比,本发明结合CVD金刚石层+孕镶金刚石层+聚晶金刚石复合片层三者优势,既可以快速破岩提高工作效率,又提高复合片整体的使用寿命。对未来用于石油钻探、地质钻探及煤田开采等领域,具有很高的社会价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 金刚石 镶金 刚石 复合 阶梯 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011497705.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。