[发明专利]曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质在审

专利信息
申请号: 202011499334.X 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112462578A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 郭党委;胡雅文;吴明仓 申请(专利权)人: 广东思沃激光科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 张艳美;刘光明
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质,其中曝光方法用于对平台上放置的若干待曝光工件进行曝光,通过所述平台的定位使若干待曝光工件依次对准激光器,所述曝光方法包括:至少于所述平台的多次定位过程中的部分时段控制所述激光器处于关闭状态。本发明对曝光机的激光器进行分时控制,使激光器至少在平台处于定位过程中的部分时段处于关闭状态,有效减少了激光器的工作时间,进而减少了激光器的发热,使得设备可以保持在相对稳定的温度,有利于保障平台的定位精度,同时也能起到节约电能和提高激光器的使用寿命的作用。
搜索关键词: 曝光 方法 计算机 可读 存储 介质
【主权项】:
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