[发明专利]一种离子发生器支架及离子发生器在审
申请号: | 202011499746.3 | 申请日: | 2020-12-18 |
公开(公告)号: | CN112594857A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 金德华;李文峰;陈飞 | 申请(专利权)人: | 深圳市中科创激光技术有限公司 |
主分类号: | F24F8/30 | 分类号: | F24F8/30;F24F11/72;F24F13/20;F24F13/32;F24F110/30 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 刘艳 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种离子发生器支架及离子发生器,离子发生器支架包括框架、第一划分板和第二划分板,第一划分板和第二划分板将框架划分为第一容置槽、第二容置槽以及风道,第一容置槽和第二容置槽分别设于风道的相对两侧;第一容置槽用于放置高压发生器,第一容置槽内设有用于固定高压发生器的第一固定结构;第二容置槽用于放置电源,第二容置槽内设有用于固定电源的第二固定结构;风道用于放置离子片和供气流通过,第一划分板和第二划分板设有用于固定离子片的第三固定结构。与现有技术相比,本发明的离子发生器支架将高压发生器和电源分隔设置,可以避免高压发生器产生的电磁辐射干扰电源的正常工作。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 发生器 支架 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市中科创激光技术有限公司,未经深圳市中科创激光技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011499746.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。