[发明专利]一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用有效
| 申请号： | 202011500100.2 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112517043B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 潘军;翟欢欢;谭鹏飞;鲁利利;刘洪沁;刘勇 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;C01B3/04 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人： | 张伟;魏娟 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用。将三聚氰胺与草酰二肼混合后，进行煅烧，得到氮空位修饰g‑C |
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| 搜索关键词： | 一种 空位 羟基 协同 修饰 石墨 氮化 光催化剂 及其 制备 光催化 中的 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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