[发明专利]X射线滤线栅的制备方法、装置及X射线滤线栅在审

专利信息
申请号: 202011500271.5 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112599283A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 石睿;顾杨健;邱承彬 申请(专利权)人: 上海酷聚科技有限公司
主分类号: G21K1/10 分类号: G21K1/10;A61B6/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 佟婷婷
地址: 201201 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种X射线滤线栅的制备方法及装置及X射线滤线栅。X射线滤线栅的制备方法包括:制备复合材料层,所述复合材料层中包括交替层叠的所述第一材料层与所述第二材料层,所述第一材料层对所述X射线的吸收率大于所述第二材料层对X射线的吸收率;控制模具从所述复合材料层的第一表面对所述复合材料层加压,将所述复合材料层压制成纵截面呈梯形的滤线栅坯体;还可对所述滤线栅坯体中包含所述第一材料层表面和所述第二材料层表面的面进行处理,以得到所述X射线滤线栅。本发明X射线滤线栅的制备方法具有制备工艺简单的特点,能够大幅降低X射线滤线栅的生产成本,有利于X射线滤线栅的推广应用。
搜索关键词: 射线 滤线栅 制备 方法 装置
【主权项】:
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