[发明专利]一种用于高空高速环境的微纳减阻结构有效
| 申请号： | 202011505408.6 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN112550679B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 许泉;张迪;傅建明;徐胜利;王波兰;莫麟;许斌;刘广;许自然;任智毅;康海峰;陈晶华;刘国刚 | 申请（专利权）人： | 上海机电工程研究所;上海神箭机电工程有限责任公司 |
| 主分类号： | B64C21/02 | 分类号： | B64C21/02;B64C21/00 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 201100 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于高空高速环境的微纳减阻结构，包括开设在飞行器外表面的沟槽，所述沟槽的形状呈长条形，所述沟槽的横截面呈等腰三角形，所述沟槽横截面的顶角位于沟槽的底部，所述沟槽横截面的底边长度在150nm‑200nm之间，所述沟槽与高速气流呈一定的角度，且所述沟槽在飞行器外表面沿垂直于沟槽长度的方向等间隔开设有多个，任一相邻两所述沟槽间均形成有分隔条，所述分隔条的长度方向平行于沟槽的长度方向，所述分隔条的横截面呈等腰三角形，且所述分隔条横截面的顶角位于分隔条的顶端。有助于减小近壁面边界层附近的黏性阻力，进而有助降低高速气体对飞行器的摩擦阻力，且结构简单，工作可靠，减阻效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 高空 高速 环境 微纳减阻 结构 | ||
【主权项】：
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