[发明专利]基于极性J-TMDs/β-Ga2在审

专利信息
申请号: 202011506539.6 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112635594A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 苏杰;常晶晶;朱小强;袁海东;林珍华;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/0328;H01L31/032;H01L31/0296;H01L31/18
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于极性J‑TMDs/β‑Ga2O3异质结的高速光电子器件及其制备方法,主要解决现有β‑Ga2O3基光电子器件响应速度慢的问题。其包括衬底(1)、β‑Ga2O3光吸收层(2)和金属源漏电极(4,5),衬底采用SiO2/Si衬底,且SiO2作为栅介质材料,Si作为底部的栅电极;β‑Ga2O3光吸收层的上部设有极性J‑TMDs层,用于与该光吸收层构成异质结,以抑制激子复合,使得电荷在异质结界面处快速转移;金属源电极位于β‑Ga2O3层上的一端,金属漏电极位于极性J‑TMDs层上与金属源电极相对的一端。本发明提升了界面处的传输性能,提高了器件的响应速度,可用于制备高性能的光电探测器。
搜索关键词: 基于 极性 tmds ga base sub
【主权项】:
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