[发明专利]一种光学关键尺寸OCD测量设备的校准方法有效
| 申请号： | 202011507757.1 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN112729108B | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 马力超;孟胜伟;周毅;范石根;李大鹏;鲍琨;王光毅 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 高天华;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种光学关键尺寸OCD测量设备的校准方法，所述方法包括：提供待测样品，所述待测样品具有暴露的待测量层；通过OCD测量设备对所述待测样品的待测量层进行测量，得到OCD测量数据；从校准数据库中确定与所述待测样品的待测量层对应的校准样品的待测量层、并根据所确定的校准样品的待测量层获取对应的校准数据；其中，所述校准数据库包括对应校准样品不同待测量层的校准数据；根据所述校准数据和所述OCD测量数据，对所述OCD测量设备进行校准。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 关键 尺寸 ocd 测量 设备 校准 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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