[发明专利]一种高量子效率的纳米阵列光电阴极及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011514561.5 申请日: 2020-12-21
公开(公告)号: CN112530768A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 沈洋;方强龙;陈亮;李依婷;谢大宝;朱华 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H01J1/34 分类号: H01J1/34;H01J9/12
代理公司: 台州杭欣专利代理事务所(普通合伙) 33333 代理人: 尚竹亚
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种高量子效率的纳米阵列光电阴极及其制备方法,光电阴极包括正极、负极、指数掺杂层、绝缘层。正极为纳米条带阵列;所述正极接入电源正极,所述负极接入电源负极。其中所述指数掺杂层包括阴极发射层、保护层和基底;所述阴极发射层为纳米圆柱;阴极发射层材料为指数掺杂的In0.53Ga0.47As,保护层材料为In0.63Ga0.37As,基底材料为n型GaAs(100)基底。本发明还公开了上述光电阴极的制备方法。在本发明中通过外加强电场的方式来降低阴极的表面功函数,可以有效减少光电阴极性能的衰减。在正极与阴极发射层之间加了绝缘层,避免出现短路或者打火的现象。采用纳米柱阵列的结构,可以大幅提升阴极的电子发射能力。采用指数掺杂的方式可以大幅提升阴极的量子效率。
搜索关键词: 一种 量子 效率 纳米 阵列 光电 阴极 及其 制备 方法
【主权项】:
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