[发明专利]空中成像设备、反射板及其制备方法在审
| 申请号： | 202011516085.0 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN114647025A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 李小龙;秦纬;彭宽军;郭凯;王铁石;张春芳;刘伟星;徐智强;滕万鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/136 | 分类号： | G02B5/136;G02B30/56 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 李远思 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开一种空中成像设备、反射板及其制备方法。该制备方法的一具体实施方式包括：在基板上形成依次层叠设置的第一相位延迟片、铁磁体箔片和第二相位延迟片；切割第一相位延迟片、铁磁体箔片和第二相位延迟片，以形成沿第一方向并行排列的多个反射条结构；产生磁场方向垂直于所述基板的磁场，使得所述反射条结构竖立以形成反射条。该实施方式工艺简单、易于实现，克服了在反射条两侧贴附相位延迟片的困难，并且，由于反射条之间存在排斥力，可使得反射条在基板上等间距分布，以此提高空中成像设备的成像效果。 | ||
| 搜索关键词： | 空中 成像 设备 反射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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