[发明专利]光罩缺陷修复方法、光罩制备方法和光罩

摘要

本发明的实施例提供了一种光罩缺陷修复方法、光罩制备方法和光罩，涉及半导体光刻工艺技术领域，采用该光罩缺陷修复方法，在沉积修复材料之前，对遮光层的透光缺陷区域内的光罩衬底进行表面粗糙化处理，以使透光缺陷区域内的光罩衬底的表面粗糙化，利用增加沉积表面粗糙度的形式，使得沉积物与沉积表面之间的接触面增大，增加沉积物的附着性，使得沉积物不易因清洗而剥落，降低大面积透光缺陷的沉积修补的失败率。