[发明专利]In掺杂CdS薄膜、制备方法及制备的CIGS电池有效
申请号: | 202011526666.2 | 申请日: | 2020-12-22 |
公开(公告)号: | CN112563118B | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 周正基;袁胜杰;武四新;常倩倩 | 申请(专利权)人: | 河南大学 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/0392;H01L31/068 |
代理公司: | 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 | 代理人: | 王红培 |
地址: | 475004 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: |
本发明提供了一种In掺杂CdS薄膜、制备方法及制备的CIGS电池,步骤如下:(1)制备CIGS吸收层薄膜;(2)向硝酸镉溶液中加入氨水和硫脲溶液,混合后加入步骤(1)制备得到的CIGS吸收层薄膜,水浴加热;(3)将In(NO |
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搜索关键词: | in 掺杂 cds 薄膜 制备 方法 cigs 电池 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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