[发明专利]可抑制射流干扰的直列式电流体打印喷头及打印方法有效

专利信息
申请号: 202011528480.0 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112644178B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 潘艳桥;郑朋义;曾良才 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/175;B41J3/54;B41J2/06
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 胡琳萍
地址: 430081 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种可抑制射流干扰的直列式电流体打印喷头及打印方法,包括可封闭的用于承纳导电性打印溶液的墨盒,电压输入连接件与所述墨盒连接;位于墨盒下方对墨盒主体进行支撑的支撑主体;呈直线阵列固定在支撑主体上且在支撑主体下方形成锥射流的至少一个喷嘴组件;位于喷嘴组件下方间隔设置的接地基板,在基板和喷嘴组件末端之间悬置设置导引电极环。能够避免多个喷嘴射流与射流之间易存在的静电干扰,使得打印到基板上的图案尺寸更小、精度更高,同时能够显著提高打印效率。
搜索关键词: 可抑制 射流 干扰 直列式电 流体 打印 喷头 方法
【主权项】:
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