[发明专利]一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202011528488.7 | 申请日： | 2020-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN112642420A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 赵田;董茗;邹敏敏;汤松凡;宋丽娟 | 申请（专利权）人： | 湖南工业大学 |
| 主分类号： | B01J23/28 | 分类号： | B01J23/28;B01J23/30;B82Y30/00;B82Y40/00;C02F1/30;C02F101/30 |
| 代理公司： | 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230 | 代理人： | 陈炳萍 |
| 地址： | 412000 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明属于材料制备技术领域，公开了一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料及其制备方法，所述高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料按照质量份数计，由三氧化钨8～12份、钼酸钠6～7份、石墨2～4份、去离子水23～30份、盐酸8～11份、硝酸4～5份、乙二醇5～8份组成。本发明制备的高浓度钼掺杂三氧化钨为光催化纳米材料，可降低原三氧化钨材料中的电子空穴复合率，能增强其在光催化反应中对太阳光谱的吸收宽度，提高光催化反应对太阳光的利用率，并提高光催化降解有机物的效率。同时，本发明通过改变催化剂的结构提高其光催化性能，钼负载中孔三氧化钨能够用有效的利用可见光，拓展了三氧化钨的光响应范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浓度 掺杂 氧化钨 光催化 纳米 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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