[发明专利]一种用于精细电路印刷的图案形成方法有效

专利信息
申请号: 202011529021.4 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112822859B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 林剑;马昌期;曾超;邢建博 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所广东(佛山)研究院
主分类号: H05K3/12 分类号: H05K3/12
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 胡枫;李素兰
地址: 528000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于精细电路印刷的图案形成方法,包括:(1)选用由含有‑O‑Si‑R基团的硅橡胶制成的印章;(2)选用衬底,所述衬底表面的主要成分为氧化硅;(3)对所述衬底进行强氧化处理,使衬底表面形成活性的Si‑O‑(H)基团;(4)在强氧化处理后的预设时间内,将所述印章与带有Si‑O‑(H)基团的衬底表面进行接触;(5)将所述印章与带有Si‑O‑(H)基团的衬底进行分离,得到能印刷精细电路的亲疏水图形。采用本发明,可以低成本大量复制亲疏水图形,进而能控制导电油墨在干燥前存在的自发运动,从而获得更精细的导电图案,并降低意外短路的概率。
搜索关键词: 一种 用于 精细 电路 印刷 图案 形成 方法
【主权项】:
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