[发明专利]可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂、制备方法及光刻胶有效

专利信息
申请号: 202011530148.8 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112592304B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 齐国强;顾大公;毛智彪;许从应;余绍山;许东升 申请(专利权)人: 宁波南大光电材料有限公司
主分类号: C07C321/30 分类号: C07C321/30;C07C319/20;C07C303/32;C07C309/04;C07C309/12;G03F7/004
代理公司: 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 代理人: 贾振勇
地址: 315800 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明适用于光刻胶领域,提供了一种可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂,用于光刻胶的制备。该可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂具有如下结构通式(I):其中,n为大于等于1的整数;R1~R4为H、碳原子数为1~20的烷基、芳基或含硫/氧/氮杂原子的取代基中的一种或多种;阴离子M为磺酸阴离子。本发明的可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂具有双鎓盐结构,相对于单一鎓盐结构的光致产酸剂,本发明的可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂具有较高的产酸效率,可以适用于多种波长的光源。由于本发明的可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂本身就是可聚合型的,所以使用该可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂的光刻胶不需要再额外的添加光刻胶树脂。
搜索关键词: 聚合 型含双鎓盐 结构 光致产酸剂 制备 方法 光刻
【主权项】:
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