[发明专利]一种激光束曝光机上下料装置可调节支架在审

专利信息
申请号: 202011530577.5 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112576893A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 华卫群;尤春;刘维维;沈铁成;韦庆宇;杨东海;刘浩 申请(专利权)人: 无锡中微掩模电子有限公司
主分类号: F16M11/10 分类号: F16M11/10;F16M11/18;F16D41/12;G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 代理人: 吴忠义
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种激光束曝光机上下料装置可调节支架,包括支架凹槽座和滚动轴承,所述支架凹槽座后端设置有插槽,且插槽的内部插接有支架立板,所述支架凹槽座的内部设置有凹槽,且支架凹槽座的右侧设置有弹簧锁止按钮,所述滚动轴承的下方设置有竖板,且滚动轴承位于支架凹槽座的前端,所述凹槽的内部螺纹连接有螺钉,且螺钉的下方设置有棘轮,所述棘轮的下方设置有棘爪,且棘爪的前端设置有棘爪旋钮,所述棘轮的前后两端均设置有气动杆,且气动杆的下方铰接有底板。该激光束曝光机上下料装置可调节支架,与现有的普通支架相比,角度可调节固定支架,结构简单、操作方便、符合人体工程学要求、有效降低了不可控因素带来的资源浪费。
搜索关键词: 一种 激光束 曝光 上下 装置 调节 支架
【主权项】:
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