[发明专利]一种磁场增强型磁流变液抛光装置在审
| 申请号： | 202011534049.7 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112548690A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 高春甫;郑岚鹏;贺新升;杨志强;傅晴;蒋佳杰;周崇秋 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 321004 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种磁场增强型磁流变液抛光装置，通过电磁铁的结构优化组合克服了传统电磁铁产生的边缘效应，可以产生径向均匀的磁场，具有更高的抛光效率，同时通过优化组合磁场远远大于单一磁铁产生的磁场，可以大大减小电磁线圈的发热。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁场 增强 流变 抛光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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