[发明专利]大口径平面光学元件在位面形拼接测量装置及方法有效

专利信息
申请号: 202011537846.0 申请日: 2020-12-23
公开(公告)号: CN112577446B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 段亚轩;达争尚;陈晓义;袁索超;范尧;李铭;王璞 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G06F17/14;G06T7/62;G06T7/66;G06T7/73;G06T17/20
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王凯敏
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 为了解决现有的测量大口径平面光学元件面形的方案易受空气气流扰动和振动的影响、测量动态范围小、面形测量分辨率不高、无法应用于在位各种姿态面形测量,以及当大口径平面光学元件面形中存在Power时无法测量的技术问题,本发明提出了一种大口径平面光学元件在位面形拼接测量装置及方法,利用激光器、半透半反镜、准直物镜、光阑、小孔光阑、准直目镜、二元光学器件、探测器、衰减板、远场探测器、驱动控制器、电控光阑、反射镜阵列、角锥棱镜阵列、六自由度运动平台,实现对被测大口径平面光学元件在位各种姿态下的动态高精度面形拼接测量,测量精度不受外界环境的影响。
搜索关键词: 口径 平面 光学 元件 在位 拼接 测量 装置 方法
【主权项】:
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