[发明专利]乙烯与硅烷反应的氯基SiC-CVD外延制程尾气FTrPSA回收与循环再利用方法在审

专利信息
申请号: 202011544297.X 申请日: 2020-12-23
公开(公告)号: CN112827322A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 钟雨明;钟娅玲;汪兰海;陈运;唐金财;蔡跃明;蒋强 申请(专利权)人: 四川天采科技有限责任公司
主分类号: B01D53/047 分类号: B01D53/047;B01D53/18;B01D1/00;B01D5/00;B01D3/14
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 轩勇丽
地址: 610041 四川省成都市中国(四川)自由贸*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了乙烯与硅烷反应的氯基SiC‑CVD外延制程尾气FTrPSA回收与循环再利用方法,属于半导体材料与半导体制程环保领域,以解决现有的SiC‑CVD外延制程制备成本高,无法从尾气中回收再利用的问题,通过预处理、浅冷氯硅烷吸收、浅冷变压吸附浓缩、吸附净化、变压吸附提氢、氢气纯化、多级蒸发/压缩/冷凝、HCl精制、氯硅烷中浅冷精馏、乙烯/硅烷分离、硅烷提纯与乙烯精制工序,回收高纯度、高收率的回收H2、HCl、SiH4、C2H4,并作为原料气返回到氯基SiC‑CVD外延制程中循环使用,既实现尾气的全组分回收再利用,又减少了尾气排放,弥补了氯基SiC‑CVD外延制程尾气处理技术的空白。
搜索关键词: 乙烯 硅烷 反应 sic cvd 外延 尾气 ftrpsa 回收 循环 再利用 方法
【主权项】:
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