[发明专利]一种去除掩膜版上的孔边毛刺的方法在审
申请号: | 202011546472.9 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112631070A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 钱超;杨波 | 申请(专利权)人: | 江苏高光半导体材料有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;G03F1/72 |
代理公司: | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人: | 肖念 |
地址: | 212400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种去除掩膜版上的孔边毛刺的方法,包括S1,步骤S1,加工盲孔:在掩膜版的对应位置加工盲孔;S2,盲孔注蜡:将熔融的热蜡滴入到盲孔中,静置冷却后铲除盲孔上多余的蜡;S3,步骤S3,表面研磨:将注蜡完成的掩膜版上机整体进行打磨,去除盲孔周边打孔时翘起的毛刺;步骤S4,加热溶蜡:将打磨好的掩膜版进行加热,用加热后的溶剂对盲孔进行冲洗,本发明通过在掩膜版上开盲孔,再向盲孔中注蜡的方式,对盲孔进行填塞,保证掩模版在研磨前毛刺不翻入到盲孔中,克服现有加工盲孔中容易进入杂物的困难,通过加热以及溶剂冲洗的方式,可在外部研磨结束后,对盲孔内部的蜡进行溶解冲洗,实现盲孔内部以及周边的清洁。 | ||
搜索关键词: | 一种 去除 掩膜版上 毛刺 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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