[发明专利]一种表面具有微阵列结构的真空绝缘子及其制备方法有效
| 申请号： | 202011551276.0 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112652430B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 张贝;刘文元;霍艳坤;柯昌凤;白现臣;孙钧;桂猷猷;程军;陈昌华 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学;西北核技术研究所 |
| 主分类号： | H01B17/36 | 分类号： | H01B17/36;H01B19/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 411105 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明属于真空高压绝缘技术领域，是一种表面具有微阵列结构的真空绝缘子及其制备方法。该绝缘子表面为阵列的微空腔结构，相邻空腔间为竖直的薄壁结构，薄壁与空腔组合形成六边形蜂窝状、方形蜂窝、三角形蜂窝及圆孔蜂窝结构。由于空腔壁较薄，使得整个幅面绝大部分面积被空腔占据。该绝缘子可采用激光微刻蚀的方法，通过在绝缘子表面刻蚀出相应形状的空腔结构，并在阵列空腔之间预留一定的薄壁结构，最终得到表面具有蜂窝状微阵列的绝缘子。该绝缘子真空沿面耐压强度较原始绝缘子提高了80％～100％，可应用于真空高压绝缘器件及其他环境下的高压绝缘器件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 具有 阵列 结构 真空 绝缘子 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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