[发明专利]含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 202011554452.6 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112646496A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;林之凡;彭小强;胡皓;关朝亮;何康宁 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 黄丽 |
| 地址： | 410073 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法。该磁流变抛光液包括40％～70％的基载液、20％～50％的羰基铁粉、1％～15％的纳米混合抛光粉、1％～5％的表面活性剂和0.1％～3％的pH调节剂，纳米混合抛光粉由平均粒径为10nm～100nm的纳米二氧化硅粉和平均粒径为50nm～800nm的纳米金刚石粉组成，二者的体积比为5～9∶4～1，制备方法包括将羰基铁粉、纳米混合抛光粉、基载液混合，然后加入表面活性剂和pH调节剂即得。本发明的磁流变抛光液可实现磁流变抛光高去除效率和高表面质量的兼容，流变性能好，稳定性强，能够实现光学元件的磁流变高效超光滑加工。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 混合 抛光 流变 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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