[发明专利]高均匀结温分布的垂直腔面发射激光器阵列有效
| 申请号： | 202011554812.2 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112688162B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 金冬月;潘永安;张万荣;杨绍萌;贾晓雪;周钰鑫;雷鑫;杨滢齐 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | H01S5/042 | 分类号： | H01S5/042;H01S5/40;H01S5/42 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供高均匀结温分布的垂直腔面发射激光器阵列，包括：多个垂直腔面发射激光器单元；对于任意两个垂直腔面发射激光器单元，第一垂直腔面发射激光器单元的注入电流大于第二垂直腔面发射激光器单元的注入电流；其中，任意两个垂直腔面发射激光器单元中，第一垂直腔面发射激光器单元与垂直腔面发射激光器阵列中心的距离，大于第二垂直腔面发射激光器单元与垂直腔面发射激光器阵列中心的距离。本发明实施例提供的高均匀结温分布的垂直腔面发射激光器阵列，可在不改变各个垂直腔面发射激光器单元原有台面排布的基础上，实现在较大偏置范围内对垂直腔面发射激光器阵列中结温分布均匀性的有效改善，进而提高其输出光束质量。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 分布 垂直 发射 激光器 阵列 | ||
【主权项】：
暂无信息
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