[发明专利]一种用于清洁半导体芯片洗涤剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202011556620.5 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112680288A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 童晨;吴海燕;韩成强;孙元;陈桂红 | 申请（专利权）人： | 昆山晶科微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/33;C11D3/04;C11D3/39;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/60;H01L21/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于清洁半导体芯片洗涤剂及其制备方法。该清洁剂各组分以及各组分含量如下：乙二胺四乙酸钠5～10wt％、氢氟酸10～15wt％、氧化剂10～15wt％、表面活性剂5～20wt％、抗静电剂3～5wt％、有机溶剂15～30wt％金属防锈剂1～10wt％以及去离子水。本申请提供的供一种用于清洁半导体芯片洗涤剂，可彻底清除半导体材料器件的表面的石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面玷污的金属原子和金属原子，且该清洁剂中添加了抗静电剂克服了现有技术中清洁剂引起的静电现象，影响半导体器件的性能。同时本申请的清洁半导体芯片洗涤剂为水基清洁剂，不仅制备成本低，而且无毒性、无腐蚀性，不会对操作人员的安全和健康产生危害。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洁 半导体 芯片 洗涤剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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