[发明专利]一种高能量利用率高均匀性的光束整形控制方法有效
申请号: | 202011559295.8 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN112558312B | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 翟中生;操文泽;刘顿;吕清花;王选择 | 申请(专利权)人: | 湖北工业大学 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G03H1/00;G03H1/12 |
代理公司: | 武汉宇晨专利事务所(普通合伙) 42001 | 代理人: | 李鹏;王敏锋 |
地址: | 430068 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种高能量利用率高均匀性的光束整形控制方法,生成以闪耀光栅为背景的纯黑掩模全息图;纯黑掩模内部加载中间灰度级高四周灰度级逐渐降低的正交光栅,获得混合全息图;将混合全息图加载到空间光调制器上,电脑控制激光器输出激光入射空间光调制器中;通过光阑去正1阶光;光束再经过分束镜分别进入CCD相机和3轴加工平台。本发明操作方便,使用灵活;可以按照目标需要制作不同尺寸不同形状的大掩模全息图;方便改变需要整形的光斑形状及尺寸,将高斯光整形为平顶光。 | ||
搜索关键词: | 一种 高能量 利用率 均匀 光束 整形 控制 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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