[发明专利]一种以卤化铅为铅源制备致密PbS量子点薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 202011559482.6 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN112885608A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 张正国;楚树勇;刘海;柯义虎;段斌 申请(专利权)人: 北方民族大学
主分类号: H01G9/042 分类号: H01G9/042;H01G9/20
代理公司: 北京欣鼎专利代理事务所(普通合伙) 11834 代理人: 卢萍
地址: 750000 宁夏回族*** 国省代码: 宁夏;64
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种以卤化铅为铅源制备致密PbS量子点薄膜的方法,以卤化铅为铅源制备致密PbS量子点薄膜方法的具体做法为:一、制备前驱体溶液。首先在10mL二甲基酰胺中加入0.05mmol卤化铅充分搅拌,得到澄清透明溶液即为前驱体溶液,然后用微孔滤膜过滤后备用。二、配置Na2S溶液。先将0.05g‑0.07gNa2S·9H2O溶于去2.5mL离子水中,然后再加入47.5mL的甲醇,便获得50mLNa2S·9H2O溶液。最后将EDT加入到乙醇中混合完全便获得体积分数为1%的EDT乙醇溶液。与现有技术相比本方法制备的PbS量子点薄膜具有导电率高,光电转换效率高的优点。
搜索关键词: 一种 卤化 制备 致密 pbs 量子 薄膜 方法
【主权项】:
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