[发明专利]一种超表面的制作方法在审
| 申请号： | 202011561301.3 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN112723305A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 张琬皎;龙眈 | 申请（专利权）人： | 杭州欧光芯科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01Q15/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 林超 |
| 地址： | 311200 浙江省杭州市大江东产业*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超表面的制作方法。对衬底表面进行预处理；在衬底上形成一层基底层；在基底层上形成一层金属层；在金属层上形成亚波长纳米表面的图像转移层；依次对亚波长纳米表面的图像转移层、金属层、基底层进行刻蚀，直至将图像转移层上的亚波长纳米表面图形转移到基底层，并且在衬底表面上也得到亚波长纳米结构区；在上述衬底表面的亚波长纳米结构区上形成氮化硅材料的亚波长纳米结构超表面；去除衬底表面残留的基底层及基底层表面的氮化硅材料。本发明方法实现了超表面的制备，解决了光刻、刻蚀技术不能对刻蚀制备特殊超表面材料的纳米结构的问题，可以制备得到高深度的横向亚波长的超表面纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 制作方法 | ||
【主权项】：
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