[发明专利]一种杂散光测量系统及其测量方法和装置在审
| 申请号： | 202011564129.7 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN114690566A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 张康龙;董小龙 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/26;G01J1/00;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种杂散光测量系统及其测量方法和装置，该测量系统包括：掩膜版，掩膜版具有遮光图案组合，遮光图案组合包括形状相同的第一图案和第二图案，第一图案的外边缘半径值大于第二图案的外边缘半径值，第一图案和第二图案的中心具有形状和尺寸均相同的透光区域；光刻机，光刻机内容置有待光刻基板，光刻机用于通过掩膜版对待光刻基板进行一次曝光，并在曝光完成后测量待光刻基板的曝光参数，根据曝光参数得到第一杂散光占比，第一杂散光的影响距离大于或等于第二图案的外边缘半径值。本发明实施例中，提高了杂散光测试精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 散光 测量 系统 及其 测量方法 装置 | ||
【主权项】：
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