[发明专利]调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法在审
| 申请号： | 202011565072.2 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN114675497A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 程于水;徐荣伟;庄亚政;孙建超 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种调焦调平装置、光刻机系统以及离焦量的测量方法，其中，所述光照单元提供的检测光斑经所述投影单元投影至一待测面上，并经待测面反射形成反射光斑并投射至所述探测单元。所述探测狭缝包括透光区和反射区。反射光斑经透光区形成第一光斑，所述第一探测器获取第一光斑的功率；反射光斑经反射区形成第二光斑，所述第二探测器获取第二光斑的功率。所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率计算出所述待测面的离焦量。因此，本发明通过设置透光区和反射区，以分别获取第一光斑和第二光斑的功率，进而计算出离焦量，避免摆动扫描反射镜，减少噪声干扰，提高探测信号的信噪比以及离焦量的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 调焦 平装 光刻 系统 离焦量 测量方法 | ||
【主权项】：
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