[发明专利]像素单元及其制作方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202011565798.6 申请日: 2017-04-20
公开(公告)号: CN112670332A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 贾文斌;许名宏;高昕伟;万想;朱飞飞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李弘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种像素单元及其制作方法和显示装置,包括基板、像素界定层、第一电极、有机层、第二电极;像素界定层和第一电极位于基板的一侧,像素界定层限定像素区域;有机层形成于像素区域内,且位于第一电极上;第二电极形成于有机层上;像素界定层上包括至少一条凹槽;凹槽的至少一斜边包括远离基板一侧的第一部分和位于第一部分和基板之间的第二部分,第二部分的坡角大于第一部分的坡角。本发明通过在像素界定层上开设凹槽来隔断相邻像素单元的有机层,在蒸镀有机层时,有机层在凹槽内被隔断,不易阶梯覆盖,即不易发生爬坡效应,避免第一电极上的载流子向非像素区移动,从而避免正电荷与电子在非像素区复合。
搜索关键词: 像素 单元 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
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