[发明专利]一种相位延迟元件及相位延迟装置有效

专利信息
申请号: 202011566667.X 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN112630879B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 吕亮;赵恒;张明骁;蒲云体;蔡超;卢忠文;乔曌;彭东旭;何祥 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B27/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 温可睿
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种相位延迟元件,包括基底和光学介质层,光学介质层形成在基底表面,光学介质层用于将入射光反射出以及将入射光相互正交的两偏振态分量经过光学介质层后的相位偏移量造成差量。与现有的采用晶体制作的波片相比,本相位延迟元件采用光学介质层制作,能够承受较高的激光功率,能够提高对激光的抗损伤能力。本发明还公开一种相位延迟装置。
搜索关键词: 一种 相位 延迟 元件 装置
【主权项】:
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