[发明专利]光刻装置及光刻方法在审
| 申请号： | 202011568963.3 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN114690569A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 彭长四;刘晟;高雅琨;石震武 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/36 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 王洪 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种光刻装置及光刻方法，能够按照掩膜版的掩膜图形进行光投影方式的无损光刻；该光刻装置包括真空生长室、掩膜板、光路系统、光源；光源、掩膜板、光路系统均位于真空生长室的外部；光源发出的光线经掩膜板和光路系统后，在真空生长室内形成光投影图案，以通过光投影图案对形成在衬底表面的材料进行光刻；光投影图案的形状与掩膜板的掩膜图案的形状一致。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
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