[发明专利]一种真空电子器件气密性检漏的装置及方法在审

专利信息
申请号: 202011575711.3 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112729711A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 朱校辰;李林;吴亚琴;姚建波;高峰;林晓辉 申请(专利权)人: 南京三乐集团有限公司
主分类号: G01M3/20 分类号: G01M3/20
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 陆志斌
地址: 210009 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及气密性检漏的装置及工艺技术领域,且公开了一种真空电子器件气密性检漏的装置及方法,包括支撑架,所述压力系统、支架系统、密封系统、辅助机构系统和平板,所述支架系统包括顶板、立柱和底板,所述密封系统包括密封框和密封门,所述辅助机构系统包括手动施压装置和自动施压装置。该真空电子器件气密性检漏的装置及方法,提高了装置的应用范围,然后将工件放置在真空橡皮垫中心,采用可调节压力系统向工件施加压力的方式,辅助以真空橡皮垫,实现真空电子器件的密封,避免了真空电子器件被污染,保证工件放置稳固,辅助机构系统防止微小、薄壁及细长工件的受压变形。
搜索关键词: 一种 真空 电子器件 气密性 检漏 装置 方法
【主权项】:
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