[发明专利]一种高帧率正弦条纹场投射模块有效
| 申请号： | 202011576053.X | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN112762860B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 彭仁军;岳慧敏;刘旋;田明睿;杨立峰;张靖 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25;G01B9/08 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 甘茂 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于3D测量技术领域，提供一种高帧率正弦条纹场投射模块，特别适合用于微型化3D测量设备中；本发明包括：光刻片1、光通道隔离座2、发光芯片安装板3、投影成像镜头4、光扩展镜头5及发光显示通道控制电路6，发光芯片、光通道隔离座与光刻片共同构成发光阵列，发光阵列中包含若干个独立的发光显示通道；通过发光显示通道控制电路控制所述发光阵列依次显示三幅具有120°相移关系的类正弦二进制填充发光图案，在所述投影镜头和光扩展镜头的作用下，在目标区投影出具有三步相移关系的正弦条纹场。本发明高帧率正弦条纹场投射模块所投影的三幅正弦条纹场的相移关系精确，具有投影帧率高、制作精度高、制作成本低、且模块控制简单等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高帧率 正弦 条纹 投射 模块 | ||
【主权项】：
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